图1. (a) NVP/C两种合成路线示意图。(b) R-NVP/C-800制备的温度-时间曲线。(c) F-NVP/C-1000制备的温度-时间曲线。(d) 实时电压和电流曲线。(e) 不同模拟时间下的热场分布图(上图:加热炉中心截面;下图:加热炉中心横截面)。
分析与结果: 图1a对比了传统的管式炉退火(耗时长达数小时)和快速的FJH(仅60秒)两种合成路线。图1b-c显示FJH过程具有极高的升温和冷却速率(分别约为37.6和16.6 °C s⁻¹),远快于传统退火。图1d的实时电压电流曲线表明功率稳定,利于快速产生焦耳热。图1e的COMSOL模拟结果揭示了FJH过程中的热场分布,表明电压是影响样品床温度分布和均匀性的关键因素,适当的电压控制有助于减小温度梯度,实现良好的材料一致性。
图2. (a) R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000的代表性XRD图谱。(b) F-NVP/C-1000的Rietveld精修XRD谱图。(c) R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000的V 2p高分辨率XPS谱图。(d) O 1s高分辨率XPS谱图。(e) g因子图谱(EPR)。(f) C 1s高分辨率XPS谱图。(g) Raman光谱。(h) TGA曲线。(i) R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000的氮气吸附-脱附等温线及相应的孔径分布图。
分析与结果: XRD(图2a)表明FJH过程没有改变NVP的相结构,但F-NVP/C-1000的衍射峰更宽、强度更低,表明其晶粒尺寸更小(Scherrer公式计算平均晶粒尺寸为43.6 nm,小于R-NVP/C-800的58.7 nm)。Rietveld精修(图2b)显示F-NVP/C-1000的晶胞参数略大,有利于Na⁺扩散和结构稳定。XPS(图2c,d,f)证实F-NVP/C-1000中存在更多的氧空位(计算含量是R-NVP/C-800的1.35倍)和少量的V²⁺(VO杂质,约1.54%)。EPR测试(图2e)进一步验证了氧空位的存在,且F-NVP/C-1000的信号强度是R-NVP/C-800的1.43倍,与XPS结果一致。Raman光谱(图2g)显示F-NVP/C-1000的碳缺陷更少(AD1/AG值更小),结构更有序,电导率更高。TGA(图2h)表明F-NVP/C-1000的碳含量更高(8.20 wt% vs 6.45 wt%),归因于FJH过程时间短,有效避免了高温下的碳损失。BET(图2i)显示F-NVP/C-1000的比表面积更小(11.2 m² g⁻¹ vs 45.5 m² g⁻¹),孔径分布更集中在3.8 nm附近,反映了其更致密的杂化结构和更小、分散更好的NVP颗粒。
图3. (a) 和 (b) 分别为R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000的SEM图像。(c) 和 (d) 分别为R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000的TEM图像。(e) 和 (f) 分别为R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000的HRTEM图像。插图为相应的选区电子衍射(SAED)图谱。(g) F-NVP/C-1000的高角度环形暗场(HAADF)图像和EDS元素分布图。
分析与结果: SEM和TEM图像(图3a-d)清晰显示,与传统R-NVP/C-800中存在的大颗粒和明显的烧结现象相比,F-NVP/C-1000中的NVP颗粒尺寸显著减小,且在碳基质中分散更均匀。这表明瞬时的热冲击和快速冷却有效抑制了NVP纳米晶的生长和融合。HRTEM(图3e-f)进一步证实了结构差异:R-NVP/C-800显示出发育良好的NVP晶体和较厚的无定形碳包覆层(~12.5 nm);而F-NVP/C-1000则显示出更小的晶粒、较差的结晶度、超小的NVP纳米晶(<5 nm)与非晶NVP相共存的结构(通过XRD计算非晶相比例约占78%),以及更薄的碳包覆层(~2.3 nm)。SAED图谱均显示出NVP的特征衍射环,但F-NVP/C-1000的图谱更模糊,与其较低的结晶度一致。EDS元素分布图(图3g)显示Na, V, P, O, C, N元素在F-NVP/C-1000中均匀分布,证明了其组分的均匀性。
图4. (a) R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000电极在0.1 mV s⁻¹扫描速率下的前三圈典型CV曲线。(b) 和 (d) 分别为R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000电极在不同扫描速率下的CV曲线。(c) R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000电极的log(ip) vs log(v)曲线。(f) R-NVP/C-800和F-NVP/C-1000电极的奈奎斯特图。
分析与结果: CV曲线(图4a)显示F-NVP/C-1000电极的氧化还原峰更尖锐,极化电压差更小(0.182 V vs 0.230 V),表明其电化学反应可逆性和动力学更好。不同扫速下的CV(图4b,d)及b值分析(图4c)表明,R-NVP/C-800的电荷存储主要由扩散控制(b值接近0.5),而F-NVP/C-1000则表现出更多的赝电容行为(b值更高,氧化峰0.62,还原峰0.79)。定量分析表明F-NVP/C-1000在1.0 mV s⁻¹下的赝电容贡献高达91%。EIS(图4f)和等效电路拟合显示F-NVP/C-1000具有更小的电荷转移电阻(Rct = 785.9 Ω vs 1093.0 Ω)和更高的Na⁺扩散系数(DNa+ = 1.17×10⁻⁹ cm² s⁻¹ vs 2.05×10⁻¹⁰ cm² s⁻¹),这归因于其更小的颗粒尺寸、更丰富的氧空位、更高的电导率(电阻率3.97 kΩ cm vs 9.82 kΩ cm)以及纳米晶/非晶混合结构,共同导致了其极化显著减弱和动力学加速。
图5. (a) 和 (b) 0.1C倍率下的恒电流充放电曲线。(c) 倍率性能。(d) 不同倍率下的容量保持率对比。(e) 0.25C下的循环性能。(f) 1C下的长循环稳定性。(g) 和 (h) F-NVP/C-1000||HC全电池在0.1C下的充放电曲线及在不同倍率下的充放电曲线。
分析与结果: 充放电曲线(图5a-b)显示,具有良好晶体结构的R-NVP/C-800在~3.4 V处有明显的电压平台,而F-NVP/C-1000的平台明显缩短,呈现更多的斜坡特性,这与非晶NVP中无序诱导的赝电容行为和单相反应机制有关(通过晶格气体模型拟合证实,F-NVP/C-1000的J值<0,趋向单相反应)。虽然F-NVP/C-1000的初始可逆容量和库伦效率略低(归因于VO杂质和丰富的表面缺陷),但其倍率性能(图5c-d)远优于R-NVP/C-800,在40C超高倍率下仍能保持65.6 mAh g⁻¹的高容量(容量保持率73.6% vs 4.6%)。循环性能(图5e-f)表明两者在0.25C下循环稳定性相当,但在1C下经过2000次循环后,F-NVP/C-1000仍能保持60.8 mAh g⁻¹的容量(保持率69.3%),而R-NVP/C-800容量衰减严重。这归因于F-NVP/C-1000中非晶和晶态共存对结构应变的稳定作用、与闪速石墨烯的紧密结合以及小尺寸颗粒有效缓解了循环过程中的体积波动。全电池测试(图5g-h)展示了F-NVP/C-1000与实际应用硬碳负极匹配的可行性,在0.1C下提供了91.3 mAh g⁻¹的放电比容量和283.4 Wh kg⁻¹的能量密度。
图6. F-NVP/C-1000电极在首次循环中不同充放电状态下的非原位XRD图谱。
分析与结果: 通过对F-NVP/C-1000电极在首次充放电循环中不同状态进行非原位XRD测试(图6),发现NVP的特征峰在整个循环过程中保持良好,没有新的衍射峰出现,表明电化学过程主要由固溶体反应机制主导。当充电至3.6 V和4.0 V时,可以观察到(104), (113), (024), (300)等衍射峰向高2θ角度轻微移动,放电至3.0 V时这些峰又恢复到接近原始状态,证明了V³⁺/V⁴⁺氧化还原反应具有良好的结构可逆性。计算表明,在完全脱钠状态下晶胞体积的收缩率仅为0.9%,小于传统炉烧法制备的NVP材料,这种微小的体积变化归因于F-NVP/C-1000中更小的晶粒尺寸和更低的结晶度,这也是其长循环稳定性显著增强的原因之一。