Ye Chen a, Yaling Zhao b, Ziwei Zhao a, Yang Liu a,*
a 河南师范大学材料科学与工程学院,新乡,河南 453007,中国
b 河南师范大学化学化工学院,新乡,河南 453007,中国
DOI: 10.1016/j.mtener.2022.101112 | Materials Today Energy | 2022
SEM图像显示CFP以及不同比例铜钴合金的形貌特征:
图1展示了CFP(a)、Cu-CFP(b)、Cu5Co-CFP(c)、Cu2.5Co-CFP(d)、CuCo-CFP(e)和Co-CFP(f)的SEM图像,以及Cu2.5Co-CFP的TEM(g)、HR-TEM(h)、HAADF图像(i)和元素分布图(j-k)。结果显示CFP表面具有粗糙的沟槽结构,有利于前驱体的附着和金属原子的锚定。HR-TEM显示晶面间距为0.207 nm,对应于Cu2.5Co合金的(111)晶面。元素分布图证明Cu2.5Co-CFP具有良好的成分均匀性。
图2展示了CFP、Cu-CFP、Cu5Co-CFP、Cu2.5Co-CFP、CuCo-CFP和Co-CFP的XRD图谱(a)、拉曼光谱(b)、Cu2p HR-XPS(c)和Co2p HR-XPS谱图(d)。XRD结果显示26.5°和54.5°的衍射峰与石墨碳结构相关,分别对应于(002)和(004)晶面。43.3°、50.5°、44.2°和51.5°的衍射峰分别对应于面心立方(FCC)Cu的Cu(111)、Cu(200)和FCC Co的Co(111)、Co(200)。XPS分析表明铜钴合金表面存在CuO和CoO,这归因于高活性催化剂在空气中的氧化。
图3展示了(a)LSV曲线、(b)塔菲尔斜率和(c)EIS谱图,以及(d)Cu2.5Co-CFP在空白、0.1M KNO3和0.1M KNO2溶液中的LSV曲线,(e)Cu2.5Co-CFP在不同电位下的法拉第效率和NH3产率,(f)使用14NO3和15NO3-作为氮源的1H NMR谱。结果表明,Cu2.5Co-CFP合金在低过电位区域(+0.05∼+0.3V vs. RHE)与具有优异NRA活性的Cu-CFP的LSV曲线良好重叠,在高过电位区域(-0.2∼+0.05V vs. RHE)具有最高的电流密度。Cu2.5Co-CFP合金具有较小的塔菲尔斜率值(108 mV/dec),表明Co的添加可以降低Cu-CFP的塔菲尔斜率,增强速率决定步骤的反应速率。
图4展示了(a)在Cu、Cu5Co、Cu2.5Co、CuCo和Co表面上通过N端途径进行NRA的自由能图(pH=7,U=0V),(b)Cu、Cu5Co、Cu2.5Co和Cu1Co的Cu-3d部分态密度(PDOS),(c)吸附NH3的Cu和Cu2.5Co表面的Cu-N键的pCOHP。计算结果表明,Cu2.5Co在整个NRA反应过程中具有最低的反应能垒,其电位决定步骤(PDS,0.32 eV)为NH3脱附。Cu-3d PDOS表明Co含量的增加可以提升Cu的d带中心。pCOHP计算显示Co的添加使部分电子进入Cu-N的反键轨道,促进了NH3的脱附。